جهاز ترسيب طبقة البخار الكيميائي تجويف (CVD)

المنتجات

• تجويف كبير من الألمنيوم

• صناعة الألياف البصرية

  فرن السintering تحت الفراغ

• صناعة الطيران

• جهاز نمو بلورات السيليكون

  LPCVD/PECVD/MOCVD/ لوحة CVD

• جهاز نمو بلورة أحادية من الجيل الثالث للسيميكونداكتور

• جهاز ترسيب طبقة البخار الكيميائي تجويف (CVD)

• جهاز ترسيب طبقة البخار الفيزيائي تجويف (PVD)

  معدات طلاء التفريغ بالمغناطيسية

  معدات طلاء التبخر القوسي

  تجهيزات النمو بالأشعة الجزيئية (MBE)

  جهاز إيداع التبخير بالليزر (PLD)

  جهاز ترسيب الأيونات متعدد القوس

• غرفة طلاء خطية مستمرة

• غرفة شفط خاصة بالشرائح الدقيقة

• صناعة الطاقة الهيدروجينية／بطارية الليثيوم

  لوحة نهاية محلل كهربائي للهيدروجين PEM

• هندسة الأدوية والكيمياء

  تقوم الغشاء الداخلي للجهاز بإزالة الهواء من تجويف الجهاز

  خط مبادل الحرارة

  مزيل الرغوة الإلكتروني

  مبادل حراري