เครื่องเคลือบด้วยวิธีเคมีไอน้ำช่องว่าง (CVD)

สินค้า

• Large Aluminum Cavity

• อุตสาหกรรมไฟเบอร์ออปติก

  เตาเผาแบบสุญญากาศ

• อุตสาหกรรมการบินและอวกาศ

• เตาเผาผลึกซิลิคอน

  LPCVD/PECVD/MOCVD/ เตา CVD แบบแผ่น

• เตาเจริญเติบโตของผลึกเดี่ยวเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่สาม

• ห้องเครื่องเคลือบด้วยเครื่อง CVD

• ห้องเครื่องเคลือบด้วยเครื่อง PVD

  อุปกรณ์เคลือบด้วยแมกเนตรอนสปัตเตอริง

  อุปกรณ์เคลือบด้วยการระเหยด้วยอาร์ก

  เครื่องจักร Epitaxy แบบ Molecular Beam (MBE)

  เครื่องจักรการเคลือบแบบ Laser Sputtering (PLD)

  เครื่องจักรเคลือบด้วยไอออนแบบ Multi-arc Ion Plating

• ห้องเคลือบแบบ Continuous Line Coating

• ห้องสุญญากาศสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

• อุตสาหกรรมพลังงานไฮโดรเจน/แบตเตอรี่ลิเธียม

  แผ่นปลายของอุปกรณ์แยกไฮโดรเจนแบบ PEM

• วิศวกรรมเภสัชกรรมและเคมีภัณฑ์

  เยื่อหุ้มด้านในของเครื่องดูดอากาศออกจากเครื่องจักร

  ท่อแลกเปลี่ยนความร้อน

  ตัวกระจายความชื้นแบบอิเล็กทรอนิกส์

  เครื่องแลกเปลี่ยนความร้อน