เตาหลอมผลึกเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่สาม

ผลิตภัณฑ์

• ช่องว่างอะลูมิเนียมขนาดใหญ่

• อุตสาหกรรมเส้นใยแสง

  เตาเผาจับตัวในสุญญากาศ

• อุตสาหกรรมการบินและอวกาศ

• เตาหลอมผลึกซิลิกอน

  LPCVD/PECVD/MOCVD/แผ่น CVD

• เตาหลอมผลึกเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่สาม

• เครื่องเคลือบด้วยวิธีเคมีไอน้ำช่องว่าง (CVD)

• เครื่องเคลือบด้วยวิธีฟิสิกส์ไอน้ำช่องว่าง (PVD)

  อุปกรณ์เคลือบด้วยการพุ่งของแม่เหล็ก

  อุปกรณ์เคลือบด้วยการระเหยแบบอาร์ก

  อุปกรณ์การสร้างสารพันธุกรรมแบบลำเลียงโมเลกุล (MBE)

  อุปกรณ์การฝากรังสีเลเซอร์ (PLD)

  อุปกรณ์เคลือบผิวด้วยไอออนหลายอาร์ก

• ช่องเคลือบผิวแบบสายต่อเนื่อง

• ห้องสุญญากาศสำหรับเซมิคอนดักเตอร์

• อุตสาหกรรมพลังงานไฮโดรเจน/แบตเตอรี่ลิเธียม

  แผ่นปลายของเครื่องแยกน้ำไฮโดรเจนแบบ PEM

• วิศวกรรมเภสัชภัณฑ์และการเคมี

  เยื่อหุ้มภายในของเครื่องทำให้เครื่องถอดออกซิเจนในโพรงอากาศ

  ท่อแลกเปลี่ยนความร้อน

  เครื่องกำจัดฟองอากาศอิเล็กทรอนิกส์

  เครื่องแลกเปลี่ยนความร้อน