কম্পিউটার এবং মোবাইল ফোনের মতো ইলেকট্রনিক ডিভাইস তৈরির জন্য সিলিকন একটি অত্যন্ত কার্যকর উপাদান। এছাড়াও, সিঙ্গেল ক্রিস্টাল সিলিকন উচ্চ বিশুদ্ধতার কারণে অনেক কম সমস্যায় পড়ে। সিঙ্গেল ক্রিস্টাল সিলিকন কীভাবে তৈরি হয় সে সম্পর্কে আপনি কি জানেন? সিলিকন ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেসের সাথে পরিচয় করিয়ে দেওয়ার সময় এসেছে।
একক স্ফটিক সিলিকন কীভাবে উৎপাদিত হয়?
সিলিকন স্ফটিক বৃদ্ধির চুল্লিতে একটি SMG ব্যবহার করুন। এই চুল্লিটি একটি বিশাল ওভেন এবং অতিরিক্ত গরম হতে পারে। চুল্লির ভিতরে একটি বিশেষ পাত্র রয়েছে যেখানে সিলিকন গলে যায়। গলিত সিলিকন গলে গেলে তাতে সামান্য বীজ স্ফটিক ডুবিয়ে দেওয়া হয়। ক্রমবর্ধমান সিলিকন স্ফটিকগুলি এই বীজ স্ফটিকের চারপাশে সুন্দরভাবে সাজানো থাকে, অবশেষে একটি একক স্ফটিক তৈরি করে।
যে সিলিকন স্ফটিক তৈরি করতে পারে, সে একটি মাইক্রোপ্রসেসর তৈরি করতে পারে।
সিলিকন স্ফটিকের জন্য গ্রোথ ফার্নেস, যাকে Czochralski পদ্ধতি বলা হয়, একক স্ফটিক সিলিকন বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত হয়। এই কৌশলটির জন্য কেবল চুল্লির তাপমাত্রা এবং গলিত সিলিকন থেকে বীজ স্ফটিক প্রত্যাহারের হারের উপর নিবিড় নিয়ন্ত্রণ প্রয়োজন। এই বিষয়গুলিকে পরিবর্তন করার মাধ্যমে আমরা ইলেকট্রনিক্সে ব্যবহারের জন্য আদর্শ উচ্চমানের একক স্ফটিক সিলিকন তৈরি করতে পারি।
উচ্চমানের সিঙ্গেল ক্রিস্টাল সিলিকন কীভাবে তৈরি করবেন
সিলিকন স্ফটিক তৈরির চুল্লিটি উত্তপ্ত করা হয়।
চুল্লিটি সিলিকন উপাদানকে তরল সিলিকনে পরিণত করে।
তরল সিলিকনের মধ্যে ধীরে ধীরে একটি বীজ স্ফটিক ঢোকানো হয়।
এরপর তরল সিলিকন থেকে ধীরে ধীরে একটি বীজ স্ফটিক প্রত্যাহার করা হয় যাতে নতুন সিলিকন স্ফটিকগুলি একটি নির্দিষ্ট দিকে বৃদ্ধি পায়।
সিঙ্গেল ক্রিস্টাল সিলিকন ধীরে ধীরে ঠান্ডা করা হয় এবং চুল্লি থেকে সরানো হয়।