PVD vs. CVD : Quelle méthode de revêtement convient le mieux aux applications des semi-conducteurs ?
Le PVD et le CVD sont deux méthodes permettant d'appliquer un revêtement spécial sur les semi-conducteurs. Chaque méthode présente ses avantages et inconvénients, et il est important de choisir celle qui convient au travail à effectuer afin de s'assurer que le semi-conducteur fonctionne correctement. PVD est l'acronyme de Physical Vapor Deposition (dépôt physique en phase vapeur). La chaleur est utilisée dans cette méthode pour transformer un matériau solide en gaz.
Le gaz adhère ensuite au semi-conducteur pour former un revêtement fin. Un avantage du PVD est qu'il s'associe bien au semi-conducteur, ce qui donne l'impression qu'il risque moins de s'écailler. Toutefois, le PVD peut être plus coûteux et prendre plus de temps à installer. four à vide continu signifie Dépôt Chimique en Phase Vapeur.
Contrairement au PVD, le CVD réalise un recouvrement du semi-conducteur en utilisant une réaction chimique.
Le processus de refroidissement constitue l'un des avantages fondamentaux du dépôt CVD, suivi par le revêtement fin et le fait qu'il ne dure pas aussi longtemps. Le choix entre CVD et PVD pour une utilisation sur le semi-conducteur exposé dépend de l'objectif et de la couche externe à réaliser.
Par exemple, le dépôt vapeur est la méthode préférable lorsqu'on la compare, mais en revanche, les derniers éléments sont susceptibles d'utiliser le PVD afin d'obtenir une liaison.
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Le dépôt par couche mince est fondamental pour les processus des géantes sorcières et fournit une voie étroite pour recueillir du matériau sur la surface du parking.
Les pièces de galet sont généralement utilisées dans le CVD. Pour obtenir les meilleurs résultats possibles avec le PVD ou four à vide continu couvrir, il n'y a eu aucune rencontre en personne avec Changzhou Lemeng de l'International. La réputation de l'entreprise va bien au-delà d'un éclairage convenable ; un financement approprié par les administrateurs montre quelles entreprises achètent quoi.
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- PVD vs. CVD : Quelle méthode de revêtement convient le mieux aux applications des semi-conducteurs ?
- Contrairement au PVD, le CVD réalise un recouvrement du semi-conducteur en utilisant une réaction chimique.
- Par exemple, le dépôt vapeur est la méthode préférable lorsqu'on la compare, mais en revanche, les derniers éléments sont susceptibles d'utiliser le PVD afin d'obtenir une liaison.
- Le dépôt par couche mince est fondamental pour les processus des géantes sorcières et fournit une voie étroite pour recueillir du matériau sur la surface du parking.