पीभीडी बनाम सीभीडी: कुन कोटिंग विधि अर्धचालक अनुप्रयोगहरूका लागि सबैभन्दा उपयुक्त छ?

पीभीडी बनाम सीभीडी: कुन कोटिंग विधि अर्धचालक अनुप्रयोगहरूका लागि सबैभन्दा उपयुक्त छ?

PVD र CVD दुईवटा तरिका हुन् जसले सेमिकन्डक्टरमा विशेष कोटिंग थप्छन्। प्रत्येक विधिका आफ्नै फाइदा र बेफाइदा हुन्छन् र कामको लागि सही विधि छान्नु आवश्यक हुन्छ ताकि सेमिकन्डक्टर राम्रोसँग काम गरोस्। PVD भनेको फिजिकल भेपर डिपोजिशनको छोटो रूप हो। यस क्लिनिङ मेथडमा ठोस पदार्थलाई ग्यासमा परिणत गर्न तापक्रमको प्रयोग गरिन्छ।

त्यसपछि ग्यास सेमिकन्डक्टरमा चिप्लिन्छ र एउटा पातलो कोटिंग बनाउँछ। PVD को एउटा फाइदा यो हो कि यो सेमिकन्डक्टरमा राम्रोसँग बन्धन गर्छ, जसले गर्दा यो खस्न सक्ने सम्भावना कम हुन्छ भन्ने अवधारणा दिन्छ। तर, PVD बढी महँगो हुन सक्छ र स्थापना गर्न लामो समय लाग्न सक्छ। निरन्तर निर्वात भट्टी केमिकल भेपर डिपोजिशनको छोटो रूप हो।

PVD जस्तो नभई CVD एउटा रासायनिक प्रतिक्रियाको प्रयोग गरेर सेमिकन्डक्टरमा कभर प्राप्त गर्छ।

शीतलन प्रक्रिया CVD डिपोजिशनको सबैभन्दा मौलिक फाइदाहरू मध्ये एक हो, त्यसपछि पातलो कोटिंग र यो त्यति लामो समयसम्म टिक्दैन भन्ने कुरा। खुल्ला सेमिकन्डक्टरमा केन्द्रीय भाग वा CVD को प्रयोग कामको उद्देश्य र बाहिरी लेयरको आधारमा निर्भर गर्दछ।

उदाहरणका लागि, तुलना गर्दा भएको बाफ निक्षेपन वरीयता विधि हो, तर विपरीतमा, अन्तिम एकहरूले बन्धन प्राप्त गर्न PVD प्रयोग गर्न सम्भावना छ।

मा लगानी गर्दा भ्याकुम कक्ष भट्ठी , तपाईंको खरीदारी आवश्यक छ भने, त्यो लेनदेनको साथ सुरु गर्न चाहन सक्छन्।

पातलो फिल्म द्वारा निक्षेपन जायन्ट विचको प्रक्रियाहरूका लागि मौलिक छ र पार्किङ लटको सतहमा सामग्री एकत्रित गर्न पातलो लेन प्रदान गर्दछ।

CVD मा सामान्यतया प्याडलिङ प्लेटहरू प्रयोग गरिन्छ। PVD वा निरन्तर निर्वात भट्टी कवर, चाङ्जोउ लेमेंग अन्तर्राष्ट्रियका साथ कुनै छेउछाउको भेटघाट भएन। कम्पनीको प्रतिष्ठा राम्रो रोशनी भन्दा बढी हो; प्रशासकहरू द्वारा उचित वित्तपोषणले देखाउँछ कि कम्पनीहरू किनमेल गर्दैछन्।