PVD проти CVD: який метод нанесення покриття найкраще підходить для напівпровідникових застосувань?

PVD проти CVD: який метод нанесення покриття найкраще підходить для напівпровідникових застосувань?

PVD та CVD — це два способи нанесення спеціального покриття на напівпровідники. Кожен метод має свої переваги та недоліки, і важливо вибрати правильний метод для роботи, щоб напівпровідник добре працював. PVD означає фізичне осадження з парової фази. У цьому методі очищення використовується тепло, щоб перетворити твердий матеріал на газ.

Потім газ прилипає до напівпровідника, утворюючи тонке покриття. Однією з переваг PVD є те, що він добре зчіплюється з напівпровідником, через що менш імовірно, що покриття відпаде. Однак PVD може бути дорожчим і довшим за часом встановлення. вакуумна піч безперервної дії означає хімічне осадження з парової фази.

На відміну від PVD, CVD досягає покриття на напівпровіднику за допомогою хімічної реакції.

Процес охолодження є однією з найбільш фундаментальних переваг осадження CVD, після чого йде тонке покриття, і той факт, що воно не триває так довго. Вибір між CVD для використання в експонованому напівпровіднику залежить від мети та зовнішнього шару, який має бути виконаний.

Наприклад, випаровування є переважним методом порівняно з іншими, але у порівнянні з цим, остаточні результати, швидше за все, використовуватимуть PVD для досягнення зв'язку.

При інвестуванні в вакуумній камері пічі , якщо необхідні покупки, ви, можливо, захочете спочатку розпочати цю транзакцію.

Осадження тонкою плівкою є основою процесів Giant witches і забезпечує тонку смугу для збирання матеріалу на поверхні парковки.

Тиглі для напилення зазвичай використовуються в CVD. Щоб отримати найкращі можливі результати з PVD або вакуумна піч безперервної дії покриття, особистих зустрічей із Changzhou Lemeng International не було. Репутація компанії виходить за межі гарного освітлення; відповідне фінансування з боку адміністраторів показує, що компанії придбавають.