PVD и CVD: Која метода премазивања најбоље одговара полупроводничким применама?

PVD и CVD: Која метода премазивања најбоље одговара полупроводничким применама?

PVD и CVD су два начина наношења специјалног премаза на полупроводнике. Свака метода има своје предности и недостатке, а важно је изабрати праву методу како би се осигурала добра функција полупроводника. PVD је скраћеница за физичку депозицију паре. У овој методи чишћења користи се топлота да би се чврсти материјал претворио у гас.

Тај гас се затим везује за полупроводник и формира танки премаз. Једна од предности PVD је да се добро везује за полупроводник, тако да је мање вероватно да ће премаз одстати. Међутим, PVD може бити скупљи и трајати дуже приликом наношења. континуална вакуум пећ је скраћеница за хемијску депозицију паре.

За разлику од PVD, CVD постиже премаз на полупроводнику коришћењем хемијске реакције.

Процес хлађења је једна од најосновнијих предности CVD депозиције, затим танки премаз и чињеница да не траје дуже. Избор између PVD и CVD за употребу у отвореном полупроводнику зависи од сврхе и врсте спољашњег слоја који треба да буде обављен.

На пример, вапор диспозиција је преферирани метод у поређењу, али напротив, коначни корисници су склони да користе ПВД за постизање везе.

Kada ulažete u вакуум комори пећи , ако је неопходно да купујете, можда бисте желели да започнете са тим трансакцијама прво.

Депозиција танким филмом је основа процеса Гиант витчес и пружа танак пролаз за прикупљање материјала на површини паркинга.

Падлинг посуде се типично користе у ЦВД. Да бисте постигли најбоље могуће резултате помоћу ПВД или континуална вакуум пећ покривени, нису постојали сусрети лицем у лице са Чангзхоу Леменг из Интернационалног. Репутација компаније је више него добродошла; адекватно финансирање од стране администратора показује шта компаније купују.