PVD vs. CVD: Qual Método de Revestimento se Adequa Melhor às Aplicações em Semicondutores?
PVD e CVD são dois métodos de aplicar um revestimento especial em semicondutores. Cada método tem suas vantagens e desvantagens, e é importante escolher o correto para o trabalho, garantindo que o semicondutor funcione corretamente. PVD é a sigla para Deposição Física de Vapor. Nesse método de limpeza, calor é utilizado para transformar um material sólido em gás.
O gás então adere ao semicondutor formando uma camada fina. Uma vantagem do PVD é que ele se liga bem ao semicondutor, dando a impressão de que é menos provável que se solte. No entanto, o PVD pode ser mais caro e levar mais tempo para ser instalado. forno contínuo a vácuo é a abreviação de Deposição Química de Vapor.
Diferentemente do PVD, o CVD consegue uma cobertura no semicondutor por meio de uma reação química.
O processo de resfriamento é uma das vantagens mais fundamentais da deposição CVD, seguido pela fina camada e pelo fato de não durar tanto. A escolha entre central e CVD para uso no semicondutor exposto depende do propósito e da camada externa a ser realizada no trabalho.
Por exemplo, a deposição de vapor é o método preferível quando comparado, mas, em contrapartida, os finais tendem a usar PVD para obter uma ligação.
Ao investir em forno de câmara de vácuo , se suas compras forem necessárias, você pode querer começar por essa transação primeiro.
A deposição por película fina é fundamental para os processos das Giant witches e fornece uma faixa estreita para reunir material na superfície do estacionamento.
Placas de aquecimento são normalmente utilizadas na CVD. Para obter os melhores resultados possíveis com PVD ou forno contínuo a vácuo cobertura, não houve encontros presenciais com a Changzhou Lemeng da International. A reputação da empresa é mais do que iluminação adequada; financiamento apropriado por administradores mostra quais empresas estão comprando.
Table of Contents
- PVD vs. CVD: Qual Método de Revestimento se Adequa Melhor às Aplicações em Semicondutores?
- Diferentemente do PVD, o CVD consegue uma cobertura no semicondutor por meio de uma reação química.
- Por exemplo, a deposição de vapor é o método preferível quando comparado, mas, em contrapartida, os finais tendem a usar PVD para obter uma ligação.
- A deposição por película fina é fundamental para os processos das Giant witches e fornece uma faixa estreita para reunir material na superfície do estacionamento.