PVD против CVD: Какой метод нанесения покрытия лучше подходит для полупроводниковых приложений?
PVD и CVD — это два способа нанесения специального покрытия на полупроводники. У каждого метода есть свои преимущества и недостатки, и важно выбрать правильный метод для конкретной задачи, чтобы убедиться, что полупроводник работает хорошо. PVD означает физическое осаждение из паровой фазы. В этом методе используется нагрев для превращения твёрдого материала в газообразное состояние.
Затем газ прилипает к полупроводнику, образуя тонкое покрытие. Одним из преимуществ PVD является то, что он хорошо сцепляется с полупроводником, что дает понять, что он менее склонен к отслаиванию. Однако PVD может быть более дорогостоящим и требовать больше времени для установки. непрерывная вакуумная печь означает осаждение из паровой фазы с химической реакцией.
В отличие от PVD, CVD обеспечивает покрытие полупроводника за счет химической реакции.
Процесс охлаждения является одним из самых основных преимуществ осаждения CVD, далее идут тонкое покрытие и тот факт, что оно не служит так долго. Выбор между центральным и CVD для использования на открытом полупроводнике зависит от цели и внешнего слоя, который должен быть выполнен.
Например, осаждение из пара является предпочтительным методом при сравнении, но, наоборот, последние, вероятно, будут использовать PVD для достижения соединения.
При инвестировании в вакуумной печи-камере , если требуется покупка, возможно, вы захотите сначала начать эту транзакцию.
Нанесение тонкой пленки лежит в основе процессов изготовления гигантских ведьм и обеспечивает тонкий канал для сбора материала на поверхности парковки.
Тарелки для напыления обычно используются в CVD. Чтобы получить наилучшие результаты с PVD или непрерывная вакуумная печь покрытие, прямых встреч с Чанчжоу Лемэнг из международной компании не было. Репутация компании — это больше, чем хорошее освещение; соответствующее финансирование со стороны администраторов показывает, какие компании что покупают.
Table of Contents
- PVD против CVD: Какой метод нанесения покрытия лучше подходит для полупроводниковых приложений?
- В отличие от PVD, CVD обеспечивает покрытие полупроводника за счет химической реакции.
- Например, осаждение из пара является предпочтительным методом при сравнении, но, наоборот, последние, вероятно, будут использовать PVD для достижения соединения.
- Нанесение тонкой пленки лежит в основе процессов изготовления гигантских ведьм и обеспечивает тонкий канал для сбора материала на поверхности парковки.