PVD ve CVD: Hangi Kaplama Yöntemi Yarı İletken Uygulamalarına Daha Uygun?

PVD ve CVD: Hangi Kaplama Yöntemi Yarı İletken Uygulamalarına Daha Uygun?

PVD ve CVD, yarı iletkenlere özel bir kaplama ekleme yöntemleridir. Her yöntem, avantajları ve dezavantajları vardır ve işin gereği olarak doğru yöntemi seçmek, yarı iletkenin iyi çalışmasını sağlamak için önemlidir. PVD, Fiziksel Buhar Biriktirme anlamına gelir. Bu temizlik yönteminde, katı bir malzemenin gaz haline gelmesi için ısı kullanılır.

Daha sonra gaz, ince bir kaplama oluşturmak üzere yarı iletkene yapışır. PVD'nin bir avantajı, yarı iletkenle iyi bağlanması ve dolayısıyla dökülme olasılığının daha az olmasıdır. Ancak PVD daha pahalıya mal olabilir ve kurulumu daha uzun sürebilir. sürekli vakum fırını kimyasal Buhar Biriktirme'nin kısaltmasıdır.

PVD'nin aksine, CVD yarı iletken üzerinde kimyasal bir reaksiyon kullanarak bir kaplama sağlar.

Soğuma süreci, CVD biriktirme işleminin en temel avantajlarından biridir. Bunun ardından ince kaplama ve işin tamamlanmasında daha uzun sürmemesi gelir. Açıkta kalan yarı iletkenin kullanımında Merkezi yöntem ile CVD yöntemi arasında seçim yaparken amaç ve dış katman işi belirleyici olacaktır.

Örneğin, buhar biriktirme işlemi karşılaştırıldığında tercih edilen yöntemdir; ancak bunun tersine, son aşamalarda bir bağ oluşturmak için PVD kullanma olasılığı yüksektir.

Yatırımda bulunulduğunda vakum odası fırını , alışveriş yapmanız gerekiyorsa, önce bu işlemi başlatmak isteyebilirsiniz.

İnce filmle biriktirme işlemi, Dev büyücülerin süreçlerinde temel bir rol oynar ve park yeri yüzeyinde malzeme toplamak için ince bir yol sağlar.

CVD işlemlerinde genellikle paddıng kaplar kullanılır. PVD ya da sürekli vakum fırını kapak, Changzhou Lemeng ile yüz yüze karşılaşmalar olmadı. Şirketin itibarı sadece iyi aydınlatma ile sınırlı değil; yönetici tarafından uygun finansman, şirketlerin ne satın aldığını gösteriyor.