PVD बनाम CVD: कौन सी कोटिंग विधि अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है?

2025-08-05 20:47:41
PVD बनाम CVD: कौन सी कोटिंग विधि अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है?

PVD बनाम CVD: कौन सी कोटिंग विधि अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है?

PVD और CVD सेमीकंडक्टर्स पर एक विशेष कोटिंग जोड़ने के दो तरीके हैं। प्रत्येक विधि के अपने फायदे और नुकसान हैं, और यह महत्वपूर्ण है कि कार्य के अनुसार सही विकल्प चुना जाए ताकि सुनिश्चित किया जा सके कि सेमीकंडक्टर अच्छी तरह से काम करे। PVD का मतलब है फिजिकल वेपर डिपॉज़िशन। इस सफाई विधि में एक ठोस पदार्थ को गैस में बदलने के लिए ऊष्मा का उपयोग किया जाता है।

फिर यह गैस सेमीकंडक्टर पर चिपक जाती है और एक पतली कोटिंग बनाती है। PVD का एक लाभ यह है कि यह सेमीकंडक्टर के साथ अच्छी तरह से बंधता है, जिससे यह संकेत मिलता है कि यह गिरने की तुलना में कम संभावना रखता है। हालांकि, PVD अधिक महंगा हो सकता है और स्थापित करने में अधिक समय ले सकता है। निरंतर वैक्यूम भट्ठी का मतलब है केमिकल वेपर डिपॉज़िशन।

PVD के विपरीत, CVD सेमीकंडक्टर पर एक कोटिंग प्राप्त करने के लिए एक रासायनिक प्रतिक्रिया का उपयोग करता है।

शीतलन प्रक्रिया CVD निक्षेपण के सबसे मौलिक लाभों में से एक है, इसके बाद पतली कोटिंग और यह तथ्य है कि यह उतना लंबा समय तक नहीं चलता। खुले सेमीकंडक्टर में उपयोग के लिए केंद्रीय बनाम CVD का निर्णय उद्देश्य और कार्य के साथ किए जाने वाले बाहरी परत पर निर्भर करता है।

उदाहरण के लिए, वाष्प निक्षेपण तुलना के मुकाबले वरीयता वाली विधि है, लेकिन इसके विपरीत, अंतिम उत्पादों में बॉन्ड प्राप्त करने के लिए PVD का उपयोग करने की संभावना होती है।

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पार्किंग स्थल की सतह पर सामग्री एकत्र करने के लिए पतली फिल्म द्वारा निक्षेपण महत्वपूर्ण जादूगरों की प्रक्रियाओं के लिए मौलिक है और एक पतली पट्टी प्रदान करता है।

CVD में आमतौर पर पैडलिंग डिशों का उपयोग किया जाता है। PVD के साथ सर्वोत्तम संभावित परिणाम प्राप्त करने के लिए निरंतर वैक्यूम भट्ठी कवर करने के बाद, इंटरनेशनल के चांगज़ौ लेमेंग के साथ कोई आमने-सामने की भेंट नहीं हुई। कंपनी की प्रतिष्ठा केवल अच्छी रोशनी से अधिक है; प्रशासकों द्वारा उचित वित्त पोषण यह दर्शाता है कि कंपनियां क्या खरीद रही हैं।

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